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先进工艺:等离子体表面处理与MARORA
随着半导体器件的不断精细化,新材料的开发和制造方法的改进成为当前研究的重点。在此背景下,降低半导体器件制造过程中的温度需求变得尤为重要。此外,对于薄膜形成过程,开发在低温下形成高质量薄膜的技术也在快速推进。鉴于此背景,日立国际电气株式会社(HitachiKokusaiElectricInc.)开始生产单片等离子体氮化和氧化设备。(MARORA设备)在本文中,将介绍一种名为“MARORA”的等离子体...
关键词:
新材料
等离子体
MARORA
表面处理
玻璃基板嵌入技术(GPE) 和玻璃基板扇出(eGFO)封装
Chiplet封装的兴起由于受光刻机工作窗口,以及掩模板材料对光线解析度的限制,芯片的大小被限制在了一个很小的面积上,也就是平常所见的一片邮票大小(约800平方毫米)。虽然有类似英特尔这种企业,在研发不计成本的超算CPU芯片时,曾经突破过这个尺寸一点点,制造出了“大芯片”(约1200平方毫米),但是并没有在市场上真正的流行起来。算力在多线程CPU和超线程GPU的需求下,每个线程的内核数量不断的堆积...
关键词:
泡沫铜箔技术和市场现状以及趋势
泡沫铜箔(又称“3D铜箔”)是一种新型的三维多孔、均匀互联的泡沫金属材料,具有轻质、高强度和良好的导电性等特点。近年来,随着电池技术的发展,尤其是固态电池和半固态电池的兴起,泡沫铜箔在锂电负极集流体领域得到了广泛关注和应用。...
关键词:
泡沫铜箔
03
2024-08
软板FPC&软硬结合板RF特殊原物料
软板FPC和软硬结合板RF,除了使用软性覆铜箔基板FCCL,铜箔Copperfoil和半固化片PP之外,还会使用到不少特殊的原物料。Coverlay覆盖膜或保护膜Coverlay:简称CVL,一般由绝缘材料PI和Adhesive胶(AD胶)结合形成的一种材料。 CVL的AD胶厚度一般是15~50um CVL的PI厚度一般有12.5um,25um,50um,75um,125um CVL存在不同的颜色...
关键词:
软板FPC
软硬结合板RF
27
2024-07
锂离子电池材料体系中的创新:复合集流体
集流体是锂电池中铜箔和铝箔的总称,起承载活性物质和汇集电流的作用。集流体一般指电池正负极用于承载活性物质(正负极材料)的基体金属,活性物质在充放电过程中产生的电流通过集流体汇集,再向外输出至外电路。1.复合集流体的发展根据锂电池的工作原理和结构设计,正、负极材料需涂覆于集流体上,经干燥、辊压、分切等工序,制备得到锂电池负极片。图1 集流体的结构示意图 [1]孙雪慧.电动汽车锂电池散热系统的设计和优...
关键词:
21
2024-07
封装基板材料:为什么ABF基板比BT基板更高级?
一般刚性基板材料的重要品种是覆铜板。它是用增强材料(ReinforeingMaterial),浸以树脂胶黏剂,通过烘干、裁剪、叠合成坯料,然后覆上铜箔,用钢板作为模具,在热压机中经高温高压成形加工而制成的。一般的多层板用的半固化片,则是覆铜板在制作过程中的半成品(多为玻璃布浸以树脂,经干燥加工而成)。在刚性PCB中,基板材料通常是FR-4。但是,在FlexPCB中,常用的基材材料是聚酰亚胺(PI)...
关键词:
封装基板
ABF基板
BT基板
13
2024-07
PCB钻孔关键技术/流程及注意事项
PCB钻孔的技术、流程、挑战以及提升钻孔质量的技巧...
关键词:
PCB钻孔
06
2024-07
封装基板微盲孔成孔技术
近十年来,消费电子产品向着微型化、功能丰富化以及信号高频化的发展十分迅速,作为电子产品基础部件的印制电路板(PCB)和面向高端产品的封装基板必然要朝着高密度化、高精细化发展。高密度化的方向主要以实现多层的高密度互连,高精细化则关注在精细的线和微小的孔,之前提升的方向以线路能力提升为主,随着线路能力提升的速度减缓以及生产成本激增,发展的方向将逐步转化为孔的提升,因此,封装基板微盲孔的制造和质量提升需...
关键词:
封装基板
微盲孔成孔技术
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