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先进工艺:等离子体表面处理与MARORA
随着半导体器件的不断精细化,新材料的开发和制造方法的改进成为当前研究的重点。在此背景下,降低半导体器件制造过程中的温度需求变得尤为重要。此外,对于薄膜形成过程,开发在低温下形成高质量薄膜的技术也在快速推进。鉴于此背景,日立国际电气株式会社(HitachiKokusaiElectricInc.)开始生产单片等离子体氮化和氧化设备。(MARORA设备)在本文中,将介绍一种名为“MARORA”的等离子体...
关键词:
新材料
等离子体
MARORA
表面处理
玻璃基板嵌入技术(GPE) 和玻璃基板扇出(eGFO)封装
Chiplet封装的兴起由于受光刻机工作窗口,以及掩模板材料对光线解析度的限制,芯片的大小被限制在了一个很小的面积上,也就是平常所见的一片邮票大小(约800平方毫米)。虽然有类似英特尔这种企业,在研发不计成本的超算CPU芯片时,曾经突破过这个尺寸一点点,制造出了“大芯片”(约1200平方毫米),但是并没有在市场上真正的流行起来。算力在多线程CPU和超线程GPU的需求下,每个线程的内核数量不断的堆积...
关键词:
半导体封装:3.5D技术解析
随着半导体行业的快速发展,先进封装技术成为了提升芯片性能和功能密度的关键。近年来,3.5D封装技术逐渐走向前台,作为2.5D和3D-IC技术之间的一种折中方案,3.5D封装结合了两者的优势,并在解决散热、噪声和信号完整性等方面展现出了独特的能力,技术的提出和应用标志着半导体封装领域的重大突破。Part13.5D封装的优势与挑战3.5D封装通过将逻辑芯片堆叠,并将它们分别粘合到其他组件共享的基板上,...
关键词:
22
2024-11
先进工艺:等离子体表面处理与MARORA
随着半导体器件的不断精细化,新材料的开发和制造方法的改进成为当前研究的重点。在此背景下,降低半导体器件制造过程中的温度需求变得尤为重要。此外,对于薄膜形成过程,开发在低温下形成高质量薄膜的技术也在快速推进。鉴于此背景,日立国际电气株式会社(HitachiKokusaiElectricInc.)开始生产单片等离子体氮化和氧化设备。(MARORA设备)在本文中,将介绍一种名为“MARORA”的等离子体...
关键词:
新材料
等离子体
MARORA
表面处理
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2024-11
玻璃基板嵌入技术(GPE) 和玻璃基板扇出(eGFO)封装
Chiplet封装的兴起由于受光刻机工作窗口,以及掩模板材料对光线解析度的限制,芯片的大小被限制在了一个很小的面积上,也就是平常所见的一片邮票大小(约800平方毫米)。虽然有类似英特尔这种企业,在研发不计成本的超算CPU芯片时,曾经突破过这个尺寸一点点,制造出了“大芯片”(约1200平方毫米),但是并没有在市场上真正的流行起来。算力在多线程CPU和超线程GPU的需求下,每个线程的内核数量不断的堆积...
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